硅粉加工工藝與硅粉研磨設備的選擇

時間：2022-10-27

硅粉加工是為**硅甲基單體合成裝置配套提供合格硅粉。硅粉加工工藝是指將冶煉出來的硅塊(25 ~80mm)經過特殊的工藝破碎,生產成為*粒度(通常80~400μm)范圍的硅粉的過程。研磨系統是硅粉加工裝置的**,主要功能是把硅塊研磨至甲基單體合成所需要的粒度及粒級組成的硅粉。硅粉加工工藝與硅粉研磨設備決定硅粉的粒度及粒級組成。目前國內可供選擇的硅粉研磨設備有立式磨、雷蒙磨、鋼球磨及沖旋粉碎機等。桂林鴻程是硅粉加工設備生產廠家，今天為您介紹一下硅粉加工工藝與硅粉研磨設備的選擇

硅粉加工工藝與硅粉研磨設備的選擇主要從以下幾個方面考慮：a.產品粒度:硅粉的粒度及粒級組成主要由各**硅生產廠商所采用的流化床決定,粒徑一般在44~ 144μm范圍內;b.研磨部件損耗量及使用壽命;c.研磨硅粉能耗及氮氣消耗量;d.自動化程度;e.設備價格。

一、硅粉研磨設備立式磨的硅粉加工工藝：硅塊經烘干、破碎后給入立式磨,研磨后的硅粉被循環(huán)氣流帶出,經收集器收集,收下的粉料經振動篩篩分,篩上粗粒返回磨機，篩下細粒進入成品倉。收集器排出的含塵氣體大部分循環(huán),少部分含塵氣體(含塵質量濃度< 50mg/m3 )直接高空排放。

二、硅粉研磨設備雷蒙磨的硅粉加工工藝：硅塊經烘千、破碎后給入雷蒙磨,研磨后的硅粉被循環(huán)氣流帶出,經旋風收塵器收塵，收下的粉料經振動篩篩分，篩上物料返回雷蒙磨,篩下物料進入成品倉。旋風收塵器排出的含塵氣體大部分循環(huán)，少部分含塵氣體不達標，需經兩級除塵,一級洗滌后高空排放。

三、硅粉研磨設備剛球磨的硅粉加工工藝：硅塊經烘干、破碎后給入鋼球磨,研磨后的硅.粉被循環(huán)氣流帶出,經分離器分離,粗粒返回鋼球磨,細粒經旋風收塵器收塵進入成品倉。旋風收塵器出來的含塵氣體大部分循環(huán),少部分含塵氣體經一級布袋除塵，一級洗滌后高空排放。

四、硅粉研磨設備沖旋磨的硅粉加工工藝：硅塊經烘干、破碎后給入沖旋粉碎機粉碎,粉.碎的物料被引風機氣流帶出,經旋風分離器分離,細粉經收集器收集進入細粉倉,尾氣高空排放;粗粉給入振動篩篩分,篩上粗粒返回沖旋粉碎機,篩下產品(中粉)進入成品倉。

硅粉加工工藝與硅粉研磨設備的選擇評估：就研磨硅粉而言,立式磨、雷蒙磨、鋼球磨及沖旋粉碎機目前在**硅廠都有使用。鋼球磨較早應用于研磨硅粉,但因工藝流程復雜,效率低,硅粉的產品粒度較細,工藝參數調整困難,噪音大,需加隔音罩;研磨介質磨輥、鋼球、襯板耗量大;硅粉含鐵量高;研磨對系統含氧量要求高，必須在氮氣保護下進行,氮氣消耗量大,因此目前新建**硅廠已很少使用鋼球磨研磨硅粉。沖旋粉碎機檢修和換刀片較頻繁,系統自動化程度低,操作和維修工作量大，收集器尾氣(含塵質量濃度< 50mg/m3 )高空排放,氣體未循環(huán),且研磨硅粉時系統無氮氣保護,有一定的爆炸風險。立式磨在水泥、非金屬、化工等行業(yè)應用較廣，與雷蒙磨系統相比,立式磨有如下優(yōu)點:a.立式磨系統設備少,流程簡單,系統密封性好;b.立式磨系統采用一級收塵,效率高，操作方便,而雷蒙磨為三級收塵,工藝系統復雜,效率低;c.雷蒙磨為懸輥磨,而立式磨為壓輥磨,安全性好;d.立式磨系統噪音低,實測為85分貝,不用加隔音罩;e.立式磨系統單位產品能耗比雷蒙磨系統低。

結論：硅粉研磨設備立式磨的硅粉加工工藝是目前硅粉加工行業(yè)的理想選擇，但相對而言投資成本也較高。桂林鴻程作為硅粉研磨設備廠家，我們生產的HLM系列硅粉立磨機、HC系列硅粉雷蒙磨等硅粉研磨設備在市場上均得到了廣泛的應用和良好的口碑。可滿足不同企業(yè)的加工需求，如果您有相關項目需要采購硅粉研磨設備，歡迎給我們來電了解詳情

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