便攜式核磁


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  • 低場核磁共振技術(shù)研究國產(chǎn)cmp研磨液

    低場核磁共振技術(shù)研究國產(chǎn)cmp研磨液什么是cmp研磨液?CMP 全稱為 Chemical Mechanical Polishing,即化學(xué)機械拋光。該技術(shù)是半導(dǎo)體晶圓制造的比備流程之一,對高精度、高性能晶圓制造至關(guān)重要。拋光液的主要成分包括研磨顆粒、PH值調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑等。從成分中我們就大概知道了拋光液是一種對分散要求很高的納米材料懸浮液,所以研磨過程中對顆粒的尺寸變化以及顆粒在懸浮液中的

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  • 波譜核磁共振和核磁的區(qū)別

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