小型濺射儀問(wèn)題解答

時(shí)間：2023-11-11作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：23

小型濺射儀儀問(wèn)儀答

近小伙伴對(duì)于濺射儀使用和技術(shù)參數(shù)問(wèn)的問(wèn)題比較多，今天總結(jié)一下濺射儀的一些常見(jiàn)的技術(shù)問(wèn)題：




1、膜厚檢測(cè)儀原理：膜厚監(jiān)測(cè)儀是采用石英晶體振蕩原理，利用頻率測(cè)量技術(shù)加上的數(shù)學(xué)算法，進(jìn)行膜厚的在線鍍膜速率和實(shí)時(shí)厚度計(jì)算。主要應(yīng)用于MBE、OLED或金屬熱蒸發(fā)、磁控濺射設(shè)備的薄膜制備過(guò)程中，對(duì)膜層厚度及鍍膜速率進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)。




2、濺射儀是否可以鍍鎳：可以鍍鎳  但是 鎳是導(dǎo)磁金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm  太厚磁場(chǎng)無(wú)法穿透  濺射速率很低。




3、直流濺射鍍膜調(diào)節(jié)：1 靶材需要良好的導(dǎo)電性, 如果具備這個(gè)條件  可以鍍    2 遇到氧化的金屬 需要配備分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氬氣維持真空到1Pa左右鍍膜的金屬接近本色。




鄭科探小型濺射儀KT-Z1650PVD

以上是小近期問(wèn)的比較多的問(wèn)題，如果還有什么問(wèn)題歡迎咨詢。


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• 詞條

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