恭祝ZN硅業(yè)NPE3500型PECVD順利驗收

時間：2025-01-22

近日，NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業(yè)有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備！

NANO-MASTER的PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜?？蓱糜诘入x子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據(jù)不同應用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規(guī)格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選，較高可定制到16”或者其他較大的尺寸，樣品臺可提供RF、Pulse DC或DC偏壓。樣品臺可提供電阻加熱或紅外燈加熱。

系統(tǒng)標配渦輪分子泵和機械泵，極限真空到5*10-7Torr，腔體壓力調(diào)節(jié)通過PC自動控制渦輪速度而全自動調(diào)節(jié)，快速穩(wěn)定。

工藝過程通過觸摸監(jiān)控屏幕和Labview軟件，可實現(xiàn)全自動的PC控制，具有高度的可重復性。系統(tǒng)具有完整的安全聯(lián)鎖，提供四級密碼授權訪問保護。能直接研發(fā)和量產(chǎn)應用。

NANO-MASTER的PECVD等離子體化學氣相沉積選配項

驗收培訓

詞條
詞條說明
*遠程微波PECVD系統(tǒng)
Nano-Master的遠程微波等離子體化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)應用范圍廣泛，包含：基片或粉體的等離子誘導表面改性等離子清洗粉體或顆粒表面等離子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的選擇性生長單晶或多晶金剛石生長???微波模塊：NANO-MASTER高質(zhì)量**命遠程微波源，頻率為2.45GH，微波**功率可以自主調(diào)節(jié)，微波反射功率可通過調(diào)節(jié)降
福州大學離子束刻蝕機順利驗收
烈日炎炎，熱情滿心間！后疫情時代，NANO-MASTER工程師步履不停，一站接一站為客戶提供設備安裝調(diào)試服務。首站福州大學，那諾-馬斯特工程師已順利安裝驗收NIE-3500型離子束刻蝕機！性能配置：離子束刻蝕機用于刻蝕金屬和介質(zhì)，z大可支持6”晶圓。配套美國考夫曼-羅賓遜 KDC160離子槍，650mA，100-1200V?？涛g速率：~250A/min對Au；刻蝕均勻度：對4”片，片內(nèi)均勻性**±
詳解磁控濺射技術
一、磁控濺射的工作原理：磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。磁控濺射的工作原理是：在高真空的條件下充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K 直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使氬氣發(fā)生電離（在高壓作用下Ar
恭祝ZN硅業(yè)NPE3500型PECVD順利驗收
近日，NANO-MASTER工程師至浙江ZN硅業(yè)有限公司，順利安裝驗收NPE-3500型PECVD等離子體化學氣相沉積設備！NANO-MASTER的PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可應用于等離子誘導表面改性、等離子清洗、等離子聚合等。根據(jù)不同應用，可選用RF、HCP、ICP或MW微波等多種規(guī)格的離子源。標準樣品臺尺寸有6”和8”可選，較高可定制到1