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什么是靶材?
靶材是制備薄膜的主要材料之一,比如鍍膜靶材,通過(guò)磁控濺射,在適當(dāng)?shù)墓に嚄l件下,濺射在基體上形成各種所需功能薄膜的濺射源。當(dāng)然還有其它鍍膜工藝,比如真空離子鍍膜、蒸發(fā)鍍膜等等電鍍工藝。根據(jù)所需求工藝應(yīng)用的不同,對(duì)靶材的種類(lèi)選擇也不同。所以說(shuō)得簡(jiǎn)單一點(diǎn),靶材就是真空電鍍材料爐里的靶,你也可以簡(jiǎn)單理解為電鍍材料的一種。
靶材就材質(zhì)分類(lèi)而言分為三大類(lèi):
1. 金屬靶材 2.陶瓷靶材 3.合金靶材
在這里我們就不一一例舉出這幾種靶材材料的具體分類(lèi) 品種,我們主要講下主要含有貴金屬的幾種靶材,比如銀靶Au、鈀靶Pd、鉑靶Pt、金靶等各種含有貴金屬的靶材。
什么是貴金屬靶材
貴金屬靶材就是采用精煉、粉末冶金、壓延加工或熔化鍛造制造而成的貴金屬靶材材料。是主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件、存儲(chǔ)用的硬盤(pán)、平面顯示器等的布線(xiàn)和制備薄膜用的貴金屬濺射靶材材料。廣泛應(yīng)用于集成電路和大規(guī)模集成電路。還有一些合金靶材用于磁記錄,比如CoPd、CoPt等。
編輯精選內(nèi)容:
高**靶材 廠家批發(fā) 歡迎來(lái)電咨詢(xún)
詞條
詞條說(shuō)明
濺射靶材的主要應(yīng)用濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè),如集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示屏、激光存儲(chǔ)器、電子控制器件等;亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域;還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。分類(lèi) 根據(jù)形狀可分為長(zhǎng)靶,方靶,圓靶,異型靶 根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根據(jù)應(yīng)用不同又分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、**導(dǎo)陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等 根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)
靶材便是快速荷能粒子負(fù)電子的總體目標(biāo)原材料。靶材類(lèi)型比較多,有金屬類(lèi)、合金類(lèi)、金屬氧化物類(lèi)這些,用的領(lǐng)域也各有不同,運(yùn)用很普遍。那麼普遍的金屬靶材有什么?普遍金屬靶材的類(lèi)型如下所示基本金屬軋材鎂Mg、錳M、鐵Fe、鈷CO、鎳Ni、銅Cu、鋅Zn、鉛Pd、錫S、鋁AL小金屬靶材銦I、鍺Ge、鎵Ga、銻Sb、鉍Bi、鎘Cd硅化物金屬靶材鈦Ti、鍇Zr、鉿Hf、釩V鈮№b、鉭Ta、銘Cr、鉬M、鎢W、錸
現(xiàn)階段靶材的制取關(guān)鍵有鑄造法和粉未冶金法。鑄造法:將一定成份配制的合金原材料熔煉,再將合金飽和溶液澆筑于模貝中,產(chǎn)生澆鑄,較終經(jīng)機(jī)械加工制造做成靶材,鑄造法在真空泵中熔煉、鑄造。常見(jiàn)的熔煉方式 有真空泵磁感應(yīng)熔煉、真空泵電孤熔煉和真空電子負(fù)電子熔煉等,其特點(diǎn)是靶材殘?jiān)浚ㄓ绕涫瞧w殘?jiān)浚┑停鄬?duì)密度高,可進(jìn)口替代;缺陷是對(duì)溶點(diǎn)和相對(duì)密度相距過(guò)大的二種或兩種以上金屬材料,一般熔煉法難以獲得成份
導(dǎo)體靶材行業(yè)市場(chǎng)、產(chǎn)品種類(lèi)及技術(shù)壁壘分析
1、 半導(dǎo)體濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)空間廣根據(jù)統(tǒng)計(jì),2015 年**半導(dǎo)體材料銷(xiāo)售額為435 億美元,其中晶圓制造材料銷(xiāo)售額為242 億美元,封裝材料為193 億美元。在晶圓制造材料中,濺射靶材約占芯片制造材料市場(chǎng)的2.6%。在封裝測(cè)試材料中,濺射靶材約占封裝測(cè)試材料市場(chǎng)的2.7%。從2011-2015年,世界半導(dǎo)體用靶較濺射材料市場(chǎng)從10.1億美元,增長(zhǎng)至11.4億美元,復(fù)合增長(zhǎng)率為3.1%。2016年
公司名: 醴陵市利吉升新材料有限公司
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